MASK 2026.04.03

[전문가 가이드] 반도체 포토마스크(MASK) 기술 용어 총망라 필수 가이드 (80선+)

포토마스크(Photomask)는 실질적으로 반도체 웨이퍼 위에 회로를 투영하는 '원본 사진'과 같습니다. 노광 성능의 한계를 극복하기 위해 물리적, 광학적 기법이 가장 집약된 분야입니다. 핵심 기술 용어 80여 개를 6개 세션으로 분류하여 상세히 기술합니다. 1. 마스크 유형 및 기초 소재 (Base Materials)…

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MASK 2026.04.02

EUV 페리클

1. 서론: 반도체 미세화와 EUV 기술의 등장 반도체 산업은 더 작고 정밀한 칩을 구현하기 위해 끊임없이 '빛의 진화'를 거듭해 왔습니다. 현재 7nm(나노미터) 이하의 초미세 공정을 실현하기 위한 핵심 동력은 바로 극자외선(EUV, Extreme Ultraviolet) 노광 공정입니다. EUV는 13.5nm라는 극도…

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MASK 2026.04.01

2. 페리클(Pellicle) 종류 정리

오늘 우리가 함께 달린 **반도체 페리클과 광원**에 대한 핵심 내용을 한눈에 쏙 들어오게 다시 열거해 줄게! 전체적인 흐름은 **"보호막(페리클) -> 왜 필요한가? -> 어떤 빛(광원)을 쓰는가?"** 순서라고 생각하면 돼. 1. 페리클(Pellicle)이란? **정의:반도체 회로가 그려진*포토마스크(Photomas…

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MASK 2026.04.01

1. 페리클(Pellicle) 이란?

1. 페리클(Pellicle)이란? 반도체 노광 공정(Photolithography)에서 회로 패턴이 그려진 포토마스크(Photomask)를 외부 오염으로부터 보호하기 위해 마스크 표면 위에 씌우는 아주 얇은 투명한 막입니다. 비유: 스마트폰 액정을 보호하기 위해 붙이는 '보호 필름'과 유사하지만, 훨씬 더 얇고 광학적…

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MASK 2026.03.30

포토마스크란 ?

*포토마스크(Photomask)**로 탄생하는 과정은 반도체 제조에서 가장 정교한 작업 중 하나입니다. 쉽게 말해, GDS가 '디지털 설계도'라면 포토마스크는 이를 현실의 물건으로 찍어내기 위한 **'필름'혹은'도장'**이라고 이해하시면 됩니다. 🎭 포토마스크(Mask)란 무엇인가? 포토마스크는 아주 깨끗한 **쿼츠(Q…

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