PROCESS
산화
실리콘 표면에 산소나 수증기를 반응시켜 절연막(SiO2)을 형성하는 물리화학적 공정입니다.
최종 업데이트: 2026.04.03
실리콘 표면에 산소나 수증기를 반응시켜 절연막(SiO2)을 형성하는 물리화학적 공정입니다.