전공정(FAB)
Advanced Atomic Layer Etching (ALE) (고급 원자층 식각)
ALE는 식각 공정의 각 단계마다 표면 화학 반응을 이용해 원자층 단위로 물질을 제거하는 초정밀 공정입니다. 이는 기존의 습식 또는 건식 식각 방식에서 발생하는 등방성(Isotropy) 및 프로파일 제어의 어려움을 극복하고, 게이트 절연막이나 게이트 전극의 측벽(Sidewall) 손상을 최소화합니다. 특히 High-NA EUV로 패턴화된 극미세 구조물의 정밀도를 유지하며 깊은 트렌치(Deep Trench)나 초고해상도 구조를 성공적으로 구현하는 데 필수적인 핵심 식각 기술입니다.
최종 업데이트: 2026.04.16