설비/장비(Equip)
ALD Reactor (원자층 증착 장비)
반도체 박막 증착에 사용되는 장비로, 전구체 가스를 교대로 주입하여 원자층 단위로 정밀하게 박막을 형성합니다. 매우 얇고 균일하며 계단 피복성이 우수한 박막을 만들 수 있어 첨단 로직 및 메모리 소자의 게이트 절연막, 고유전율(High-k) 물질 등에 필수적으로 활용됩니다. 미세 공정에서 막질 제어의 핵심적인 역할을 수행합니다.
최종 업데이트: 2026.04.03