설비/장비(Equip)
Anamorphic Lens Design (아나모픽 렌즈 설계)
High-NA EUV 스캐너의 핵심 광학계 설계 방식으로, 웨이퍼면의 해상도를 극대화하기 위해 마스크와 웨이퍼에서의 축소율을 다르게 적용하는 기술입니다. 마스크 상에서는 4배, 웨이퍼 상에서는 8배의 축소율을 사용하여 좁은 시야(field) 영역 내에서 초고해상도를 구현하며, 이는 High-NA EUV 장비의 혁신적인 발전 동력 중 하나입니다. 이러한 비대칭 축소율은 광학계의 수차 제어를 매우 복잡하게 만들지만, 차세대 초미세 패턴 구현에 필수적입니다.
최종 업데이트: 2026.04.04