전공정(FAB)
CD-SEM (핵심 치수 주사전자현미경)
반도체 웨이퍼에 형성된 미세 패턴의 핵심 치수(Critical Dimension, CD)를 고해상도로 측정하는 주사전자현미경(SEM) 기반의 장비입니다. 매우 짧은 파장의 전자 빔을 사용하여 나노미터 스케일의 패턴을 비파괴적으로 정밀하게 측정합니다. CD-SEM은 리소그래피 및 식각 공정의 정확도를 평가하고 공정 편차를 모니터링하여 수율과 소자 성능을 최적화하는 데 필수적인 계측 장비입니다.
최종 업데이트: 2026.04.03