설비/장비(Equip)
CD-SEM (Critical Dimension Scanning Electron Microscope) (임계 치수 주사 전자 현미경)
반도체 웨이퍼 위에 형성된 미세 패턴의 폭(CD, Critical Dimension)을 나노미터 수준으로 정밀하게 측정하는 장비입니다. 전자빔을 사용하여 이미지화하며, 공정 결과의 정확성을 확인하고 공정 변동을 모니터링하여 수율을 관리하는 데 핵심적인 역할을 합니다. 리소그래피 및 식각 공정 제어에 필수적입니다.
최종 업데이트: 2026.04.03