공정 소재(Material)
Chemical Vapor Deposition (CVD) for Metals (금속 CVD)
기체 상태의 전구체(precursor) 물질이 반응하여 화학적으로 기판 표면에 금속 박막을 형성하는 증착 공정입니다. 고온에서 전구체가 분해되면서 금속 원자들이 기판에 증착되며, PVD에 비해 우수한 스텝 커버리지를 제공합니다. 주로 텅스텐(W) 플러그 증착에 널리 사용되며, 코발트(Co) 등 다른 금속 배선 재료 증착에도 연구가 활발히 진행되어 미세 패턴 내 깊은 홀을 채우는 데 중요한 역할을 합니다.
최종 업데이트: 2026.04.03