기초/기타
CMP (Chemical Mechanical Polishing)
슬러리와 연마 패드를 이용해 웨이퍼 표면을 물리적, 화학적으로 평탄하게 깎는 공정입니다. 🛠️
최종 업데이트: 2026.04.05
슬러리와 연마 패드를 이용해 웨이퍼 표면을 물리적, 화학적으로 평탄하게 깎는 공정입니다. 🛠️