전공정(FAB)
Critical Dimension (CD) (핵심 치수)
반도체 소자에서 설계된 패턴의 최소 폭 또는 간격을 나타내는 중요한 측정값입니다. 이는 리소그래피 공정의 해상도와 식각 공정의 정밀도를 직접적으로 반영하며, 소자 성능과 집적도를 결정하는 핵심 요소입니다. CD의 정밀한 제어는 첨단 반도체 공정에서 수율 향상 및 고성능 소자 구현에 필수적입니다.
최종 업데이트: 2026.04.03