전공정(FAB)
Critical Dimension (CD) on Mask
마스크 상에 형성된 회로 패턴의 임계 치수(선폭)를 의미합니다. 마스크의 CD 오차는 노광 공정을 통해 웨이퍼에 그대로 전달(또는 확대)되므로 매우 엄격한 관리와 측정(Metrology)이 필요합니다.
최종 업데이트: 2026.04.03