설비/장비(Equip)
Defocus Metrology (Focus Variation Metrology)
디포커스 측정법은 리소그래피 공정에서 포커스(초점 깊이) 변화에 따른 패턴 형성의 국부적인 변화를 실시간으로 분석하는 고급 계측 기술입니다. 고NA(High-NA) EUV 공정에서는 초점 변화에 대한 패턴의 민감도가 매우 높아지기 때문에, 이 측정법을 통해 웨이퍼 전반의 초점 균일성을 정밀하게 검증해야 합니다. 이 기술은 공정 윈도우(Process Window)의 크기를 예측하고 최적화하여 수율(Yield)을 극대화하는 데 필수적입니다.
최종 업데이트: 2026.04.16