전공정(FAB)
Directed Self-Assembly (DSA) (자기정렬 배열)
블록 공중합체(Block Copolymer)와 같은 자기조립 특성을 가진 소재를 사용하여, 리소그래피로 형성된 가이드 패턴의 유도 하에 나노 스케일의 주기적인 패턴을 스스로 형성시키는 기술입니다. 이는 기존 리소그래피의 해상도 한계를 넘어 초미세 패턴을 저비용으로 구현할 수 있는 잠재력을 가지고 있습니다. 피치 멀티플리케이션(Pitch Multiplication)을 통해 선폭과 간격을 미세화하여 차세대 반도체 제조에 활용될 수 있습니다.
최종 업데이트: 2026.04.04