전공정(FAB)
Directed Self-Assembly (DSA) Lithography
DSA는 기존의 광학 리소그래피 방식의 한계를 극복하기 위해 자기 조립 패턴 형성 원리를 이용하는 첨단 공정 기술입니다. 액정 폴리머(Block Copolymer) 등의 패턴 형성 재료를 사용하여 원하는 주기성과 나노 크기의 패턴을 반도체 웨이퍼 표면에 유도적으로 배열하고 정렬시키는 방식입니다. 이는 High-NA EUV가 처리하기 어려운 초소형 피치(pitch) 영역에서의 패턴 구현 가능성을 획기적으로 높여, 극자외선 리소그래피 공정의 보완적 대안으로 활발히 연구되고 있습니다.
최종 업데이트: 2026.04.16