전공정(FAB)
DSA (Directed Self-Assembly)
분자 스스로가 특정 패턴을 형성하는 성질을 이용한 차세대 패터닝 기술입니다. 고분자 블록 공중합체(Block Copolymer)의 미세 상분리 현상을 노광 가이드 패턴 위에 유도하여 초미세 회로를 형성합니다. EUV 노광 횟수를 줄일 수 있는 대안 기술로서 비용 절감과 해상도 개선 효과를 기대할 수 있으며 최근 메모리 공정을 중심으로 연구가 활성화되고 있습니다.
최종 업데이트: 2026.04.05