EPE

EPE (Edge Placement Error, 에지 배치 오차)
사용자 정의: 설계상의 원래 에지 위치와 실제 웨이퍼에 인쇄된 에지 위치 사이의 오차 거리.

상세 설명: 미세 공정에서 패턴의 정확도를 평가하는 가장 중요한 척도입니다. 과거에는 단순히 선폭(CD, Critical Dimension)의 균일성(CDU)만을 중요하게 생각했으나, 패턴 사이의 간격이 극도로 좁아지면서 패턴의 정확한 '위치'가 더 중요해졌습니다.

구성 요소 및 영향: EPE는 노광 공정 자체의 왜곡(리소 EPE)뿐만 아니라, 식각 공정에 의한 변형(식각 EPE), 오버레이(층간 정렬) 오차 등 제조 공정 전반에서 발생하는 오차의 합으로 정의됩니다. EPE가 커지면 트랜지스터의 성능 저하, 누설 전류 증가, 심지어 단락(Short)이나 단선(Open)과 같은 치명적인 결함으로 이어집니다. 따라서 OPC와 ILT 기술의 최종 목표는 전 칩 영역에서 EPE를 최소화하는 것입니다. EUV 노광 공정에서는 확률적인 변동성(Stochastic Effects)에 의한 EPE가 큰 과제입니다.