전공정(FAB)
Etch Rate (식각 속도)
식각 공정에서 단위 시간당 제거되는 박막의 두께를 나타내는 지표입니다. 이는 식각 공정의 효율성과 생산성에 직접적인 영향을 미치며, 정밀한 식각 깊이 제어에 필수적인 요소입니다. 식각 속도는 반응 가스의 종류, 플라즈마 파워, 압력, 온도 등 다양한 공정 변수에 의해 결정되며, 원하는 패턴 형성을 위해 정확하게 조절되어야 합니다.
최종 업데이트: 2026.04.03