설비/장비(Equip)
EUV High-NA Metrology
EUV High-NA Metrology는 기존 EUV 리소그래피보다 높은 개구수(NA)를 갖는 EUV High-NA 툴에 적용되는 측정 기술입니다. 이는 더 미세한 패턴을 정확하게 측정하고 검증하는 데 필수적이며, 2나노미터 이하 공정의 수율 확보와 품질 관리를 위해 매우 중요합니다. EUV High-NA Metrology는 결함 검출, 치수 측정, 그리고 공정 변이 분석 등 다양한 영역에서 활용되어 차세대 반도체 생산의 정확성을 높이는 데 기여합니다.
최종 업데이트: 2026.04.14