설비/장비(Equip)
EUV Pellicle for High-NA (고-NA EUV 펠리클)
고-NA EUV 펠리클은 차세대 EUV 리소그래피 공정에서 포토마스크를 보호하는 투과형 박막으로, 고-NA EUV 시스템의 고해상도 패터닝 요구사항을 충족하기 위한 필수적인 요소입니다. 기존 EUV 펠리클보다 훨씬 높은 EUV 투과율과 극도로 낮은 흡수율을 가지면서도, 고출력 EUV 광원으로부터 발생하는 막대한 열 부하를 견딜 수 있어야 합니다. 동시에 수십 나노미터 이하의 결함을 완벽하게 방지할 수 있는 청정도가 요구되어, 새로운 소재 개발 및 제조 기술이 매우 중요한 기술적 난제로 남아있습니다.
최종 업데이트: 2026.04.09