설비/장비(Equip)
EUV Pellicle for High-NA
High-NA EUV 리소그래피는 기존 EUV보다 더 미세한 패턴을 구현하기 위해 개구수(Numerical Aperture, NA)를 높인 차세대 노광 기술입니다. High-NA EUV 펠리클은 이러한 고해상도 노광 공정에서 마스크(레티클)를 오염으로부터 보호하는 필수 부품으로, 기존 EUV 펠리클보다 훨씬 높은 투과율과 더 엄격한 내구성을 요구합니다. 이 펠리클은 High-NA EUV 시스템의 안정적인 작동과 미세 패턴 구현의 정확성을 보장하는 데 결정적인 역할을 수행합니다.
최종 업데이트: 2026.04.14