설비/장비(Equip)
EUV Source Power Scaling & Wavelength Stability
EUV(극자외선) 리소그래피 공정에서 사용되는 광원의 출력을 높이고, 파장의 안정성을 더욱 정밀하게 제어하는 기술입니다. 광원 출력 증가는 생산성을 향상시키고, 웨이퍼당 생산 비용을 절감하는 데 직접적인 영향을 미칩니다. 또한, 파장의 미세한 변동은 패턴 해상도에 치명적인 영향을 줄 수 있으므로, 고도의 안정성 확보는 1 나노미터 이하 미세 공정 구현을 위해 필수적입니다. 이러한 기술 발전은 더욱 미세하고 복잡한 반도체 회로 설계를 가능하게 합니다.
최종 업데이트: 2026.04.12