기초/기타
Exposure (노광)
노광은 리소그래피 공정의 핵심 단계로, 마스크에 그려진 회로 패턴을 감광액이 도포된 웨이퍼 위에 빛을 이용하여 전사하는 과정입니다. 이 과정에서 사용되는 빛의 파장(예: DUV, EUV)과 노광 장비의 해상도가 미세 패턴 형성 능력에 결정적인 영향을 미칩니다. 정확하고 균일한 노광은 웨이퍼 위에 정교한 회로를 구현하고 반도체 소자의 성능을 좌우하는 중요한 단계입니다.
최종 업데이트: 2026.04.03