전공정(FAB)
Exposure Dose (노광량)
포토레지스트에 패턴을 형성하기 위해 필요한 단위 면적당 빛의 에너지 총량을 의미합니다. 적절한 노광량은 패턴의 핵심 치수(CD)와 해상도를 결정하며, 과도하거나 부족한 노광은 패턴 왜곡이나 불량으로 이어질 수 있습니다. 반도체 제조에서 미세 회로의 정밀도를 확보하고 높은 수율과 소자 성능을 달성하는 데 필수적인 최적의 노광량 설정이 중요합니다.
최종 업데이트: 2026.04.03