설비/장비(Equip)
Extreme Ultraviolet Metrology for Defect Inspection
EUV 공정의 미세 패턴 결함을 검출하기 위해 EUV 광원을 활용하는 첨단 계측 기술입니다. 기존의 UV 또는 가시광선 기반 검사로는 파장의 한계로 인해 미세 결함 검출이 어려웠으나, EUV 광원을 사용하면 더욱 미세한 결함을 민감하게 감지할 수 있습니다. 이는 EUV 공정의 수율 향상과 신뢰성 확보에 필수적이며, 특히 High-NA EUV와 같은 차세대 리소그래피 기술의 발전과 함께 더욱 중요해지고 있습니다.
최종 업데이트: 2026.04.11