설비/장비(Equip)
FIB (Focused Ion Beam) (집중 이온 빔 장비)
고도로 집속된 이온 빔을 사용하여 반도체 시료를 나노미터 단위로 정밀하게 가공하거나 이미징하는 장비입니다. 시료 준비(TEM용 얇은 박편 제작), 회로 수정, 미세 패턴 형성 등에 활용됩니다. 특정 지점의 재료를 제거하거나 증착할 수 있어 공정 개발 및 불량 분석에 매우 유용합니다.
최종 업데이트: 2026.04.03