설비/장비(Equip)
Full-Wafer Scale EUV Lithography
단일 노광 공정으로 전체 웨이퍼에 걸쳐 EUV(극자외선) 리소그래피를 적용하는 기술을 의미합니다. 기존 EUV 리소그래피는 일부 영역 또는 특정 마스크 패턴에만 제한적으로 사용되었으나, Full-Wafer Scale EUV는 더 넓은 면적에 고해상도 패턴을 균일하게 형성할 수 있게 합니다. 이는 2나노미터(nm) 이하 공정에서 고밀도 회로 구현을 가능하게 하는 핵심 기술이며, ASML의 High-NA EUV 장비 등 차세대 리소그래피 기술 발전에 힘입어 중요성이 더욱 커지고 있습니다.
최종 업데이트: 2026.04.14