설비/장비(Equip)
Furnace (Diffusion Furnace) (확산로)
반도체 웨이퍼에 불순물을 확산시키거나 산화막을 형성하는 등 고온 열처리 공정에 사용되는 대형 장비입니다. 내부 온도를 수백에서 천도 이상으로 정밀하게 제어할 수 있으며, 여러 장의 웨이퍼를 동시에 처리합니다. 웨이퍼 전체에 걸쳐 균일한 열처리 환경을 제공하여 소자의 전기적 특성을 안정화하는 데 중요합니다.
최종 업데이트: 2026.04.03