전공정(FAB)
Graphoepitaxy (그래포에피택시)
DSA(Directed Self-Assembly) 공정에서 블록 공중합체의 자기조립 패턴을 유도하기 위해 기판 표면에 물리적인 요철(groove) 형태의 가이드 패턴을 형성하는 기술입니다. 리소그래피와 식각 공정을 통해 제작된 트렌치(trench)나 릿지(ridge) 구조가 블록 공중합체의 정렬을 물리적으로 제한하여 원하는 방향과 주기성을 가진 나노패턴을 형성하도록 돕습니다. 이는 Chemoepitaxy와 더불어 DSA의 주요 유도 방식 중 하나입니다.
최종 업데이트: 2026.04.04