PROCESS

High-NA

High Numerical Aperture. EUV 노광기의 렌즈 구경(NA)을 0.33에서 0.55로 키워 더 미세한 패턴을 형성하는 차세대 EUV 기술.

최종 업데이트: 2026.04.03

분야별 의견 및 추가 지식

0

의견을 남기려면 로그인이 필요합니다.

로그인
아직 의견이 없습니다. 첫 번째 전문가의견을 남겨보세요!