전공정(FAB)
High-NA EUV (NA 0.55)
기존 EUV 노광 장비의 렌즈 개구수(Numerical Aperture)를 0.33에서 0.55로 높인 차세대 노광 기술입니다. 아베의 회전 한계(Abbe's Diffraction Limit)에 따라 해상력을 높여 2nm 이하 초미세 공정에서 멀티 패터닝 없이 단일 노광만으로 회로를 그릴 수 있게 해줍니다. ASML이 독점 공급하며, 렌즈 크기 증가에 따라 장비 크기가 커지고 아나모픽(Anamorphic) 렌즈 시스템이 도입되는 등 광학계의 대대적인 혁신이 포함됩니다.
최종 업데이트: 2026.04.05