설비/장비(Equip)
High-NA EUV Stochastics Metrology
High-NA EUV 리소그래피 공정에서 회절 한계 극복을 위해 도입되는 고배율(High Numerical Aperture) EUV 장비를 활용하여, 미세 패턴 형성 시 발생하는 확률적 오류(stochastics)를 정밀하게 측정하고 분석하는 기술입니다. 이는 기존 EUV 대비 더 작은 패턴을 정밀하게 새기면서 발생할 수 있는 무작위적인 결함들을 실시간으로 감지하고 제어하여 수율을 확보하는 데 필수적입니다.
최종 업데이트: 2026.04.13