설비/장비(Equip)
High-Power EUV Source (고출력 EUV 광원)
극자외선(EUV) 리소그래피 장비의 생산성(throughput)을 결정하는 핵심 요소로, 더 많은 EUV 포톤을 안정적으로 생성하는 기술을 의미합니다. 액체 주석(Liquid Tin) 드롭렛에 고출력 레이저를 조사하여 플라즈마를 발생시키는 방식으로, 현재 250W급 이상의 광원 출력이 요구되며 500W 이상으로의 지속적인 증대가 목표입니다. 광원 출력이 높을수록 웨이퍼 처리 속도가 빨라져 전체 칩 제조 비용 절감에 기여합니다.
최종 업데이트: 2026.04.04