기초/기타
Hotspot (핫스팟)
사용자 정의: 리소그래피 공정 중 설계상의 취약점으로 인해 패턴 불량이 발생할 가능성이 높은 특정 지점.
상세 설명: 미세 공정에서 수율 향상을 가로막는 가장 큰 적입니다. 설계 규칙(Design Rule)은 통과했으나, 실제 노광 공정 시뮬레이션(PV Band 분석 등)을 수행했을 때 초점이나 에너지 변동에 매우 민감하여 에지 배치 오차(EPE)가 크게 발생하는 지점들입니다.
종류 및 결과: 주요 Hotspot으로는 패턴이 너무 얇아져 끊어지기 직전인 'Pinching', 인접 패턴과 겹쳐 단락이 발생하기 직전인 'Bridging', 라인 끝이 너무 짧아져 연결이 안 되는 'Line End Shortening' 등이 있습니다. EUV 노광 공정에서는 확률적인 변동성에 의해 불량이 무작위로 발생하는 stochastic hotspot도 큰 문제입니다.
관리: DFM과 리소 검증 단계에서 이러한 Hotspot을 시뮬레이션으로 미리 찾아내고, 해당 위치의 패턴을 수정하거나 ILT, SMO 등
최종 업데이트: 2026.04.11