설비/장비(Equip)
ICP-RIE (Inductively Coupled Plasma RIE) (유도 결합 플라즈마 RIE)
RIE의 발전된 형태로, 플라즈마 발생과 이온 가속을 독립적으로 제어할 수 있는 장비입니다. 높은 밀도의 플라즈마를 생성하여 식각 속도를 높이고, 이온 에너지를 정밀하게 조절하여 식각 프로파일과 선택비를 최적화합니다. 특히 고종횡비(high aspect ratio) 구조나 복잡한 3D 구조 식각에 유리합니다.
최종 업데이트: 2026.04.03