ILT

ILT (Inverse Lithography Technology, 역 리소그래피 기술)
사용자 정의: 원하는 웨이퍼 이미지를 얻기 위해 수학적 역계산을 통해 최적의 마스크 형상을 찾아내는 기술.

상세 설명: 전통적인 OPC가 설계 패턴에서 시작하여 반복적으로 마스크를 수정해나가는 방식이라면, ILT는 그 반대로 접근합니다. 먼저 최종적으로 얻고자 하는 웨이퍼 위의 완벽한 타겟 패턴을 정의하고, 광학계의 특성을 나타내는 PSF 등을 이용해 역으로 이 이미지를 만들어낼 수 있는 최적의 마스크 패턴 분포를 수학적으로 계산해냅니다.

특징: 이 과정에서 전통적인 OPC로는 구현하기 힘든 곡선 형태의 매우 복잡하고 '유기적인' 마스크 패턴이 생성되며, SRAF도 자연스럽게 통합되어 최적화됩니다. ILT는 전산 리소그래피 기술 중 가장 강력한 해결책을 제공하지만, 계산량이 막대하여 초기에는 특정 취약 지점(Hotspot) 보정에만 쓰였으나, 최근에는 하드웨어 가속 기술(GPU 등)의 발전으로 전 칩 OPC로 확대 적용되고 있습니다.