전공정(FAB)
Ion Implanter (이온 주입기)
반도체 웨이퍼에 원하는 불순물 원자(도펀트)를 정밀하게 주입하여 전기적 특성을 조절하는 장비입니다. 도펀트를 이온화시킨 후 전기장으로 가속하여 웨이퍼에 충돌시켜 주입하며, 주입량(Dose)과 깊이(Energy)를 정확히 제어할 수 있습니다. 이온 주입기는 트랜지스터의 소스/드레인, 채널 영역 등을 형성하는 데 필수적인 장비로, 반도체 소자의 성능과 기능을 결정합니다.
최종 업데이트: 2026.04.03