설비/장비(Equip)
Ion Implanter (이온 주입 장비)
고에너지 이온을 웨이퍼 표면에 주입하여 반도체 재료의 전기적 특성을 정밀하게 조절하는 장비입니다. 주로 불순물(도펀트)을 주입하여 n형 또는 p형 반도체를 형성하고, 트랜지스터의 문턱 전압(threshold voltage)을 조절하는 데 사용됩니다. 이온의 종류, 에너지, 도즈량을 정밀하게 제어하여 소자의 성능과 신뢰성을 결정하는 중요한 장비입니다.
최종 업데이트: 2026.04.03