전공정(FAB)
Mask 3D Effects (마스크 3D 효과)
극자외선(EUV) 리소그래피에서 마스크 패턴의 높이(두께)가 EUV 파장과 유사해지면서 발생하는 광학적 회절 현상입니다. 마스크의 흡수층과 반사층 구조가 3차원적 영향을 미쳐, 입사광의 각도에 따라 마스크를 통과하는 빛의 강도와 위상 변화가 비대칭적으로 나타납니다. 이는 웨이퍼에 전사되는 이미지의 왜곡(예: CD 변화, 비대칭 프로파일)을 유발하여 패턴 정확도를 저하시키는 주요 과제로 인식됩니다.
최종 업데이트: 2026.04.04