설계(Design)
MEBES
MEBES(Manufacturing Electron Beam Exposure System)는 Etec Systems에서 개발한 초기 상용 전자빔 리소그래피 마스크 작도 시스템이자, 해당 시스템용 포맷입니다. 반도체 마스크 제작(Mask Writer)에 주로 사용되며, 단일 레이어 설계 데이터를 표현하는 데 쓰입니다.
최종 업데이트: 2026.04.04