공정 소재(Material)
Metal Organic Chemical Vapor Deposition (MOCVD) (금속 유기 화학 기상 증착)
유기금속 화합물을 전구체(precursor)로 사용하여 기판 위에 금속 또는 금속 산화물/질화물 박막을 형성하는 화학 기상 증착(CVD)의 한 종류입니다. MOCVD는 비교적 낮은 온도에서 고순도의 박막을 증착할 수 있으며, 조성 제어가 용이하고 우수한 스텝 커버리지를 제공합니다. 주로 화합물 반도체(GaAs, GaN)의 성장, 고유전율(High-k) 유전체 및 금속 게이트, 그리고 고성능 배선 재료 증착에 활용됩니다.
최종 업데이트: 2026.04.03