기초/기타
Metrology (계측)
계측은 반도체 제조 공정 중 웨이퍼의 물리적, 전기적 특성을 정밀하게 측정하고 분석하는 모든 활동을 포괄합니다. CD, 막 두께, 오버레이, 결함 유무 등 다양한 파라미터를 측정하여 공정 상태를 모니터링하고 제어하며, 이는 수율 향상과 제품 품질 보증에 필수적입니다. 첨단 계측 장비는 나노미터 수준의 정밀도로 공정을 관리하여 미세화된 반도체 생산을 가능하게 합니다.
최종 업데이트: 2026.04.03