설비/장비(Equip)
Next-Generation EUV (e.g., High-NA EUV)
기존 EUV 리소그래피의 해상도를 더욱 향상시키기 위한 차세대 기술입니다. 특히 High-NA (High Numerical Aperture) EUV는 렌즈의 개구율을 높여 더 미세한 패턴을 구현할 수 있게 합니다. 이는 2nm 이하 공정에서 요구되는 초미세 회로 패턴을 정확하게 새기는 데 필수적이며, 반도체 집적도를 한 단계 끌어올릴 핵심 기술입니다.
최종 업데이트: 2026.04.15