설비/장비(Equip)
Next-Generation EUV: High-NA EUV (NA 0.55)
기존 EUV(Extreme Ultraviolet) 리소그래피의 개구수(Numerical Aperture, NA)를 0.55로 높여 해상도를 획기적으로 개선한 차세대 EUV 기술입니다. NA가 높아짐에 따라 더 미세한 패턴을 직접적으로 구현할 수 있게 되어, 2나노미터(nm) 이하 공정에서 요구되는 초미세 회로 패턴 형성에 필수적입니다. High-NA EUV는 기존 EUV보다 더 복잡한 광학 시스템과 고가의 장비를 요구하지만, 반도체 집적도의 한계를 돌파하는 핵심 기술로 평가받고 있습니다.
최종 업데이트: 2026.04.13