설비/장비(Equip)
Next-Generation EUV Lithography: High-NA EUV & Beyond
기존 EUV 리소그래피(NA 0.33)의 한계를 극복하고 더 미세한 패턴을 구현하기 위한 차세대 기술로, 개구수(NA)를 0.55 이상으로 높여 해상도를 획기적으로 향상시킵니다. High-NA EUV는 2nm 이하 공정에서 필수적인 기술로, 더 높은 집적도와 성능을 가능하게 합니다. 더불어, EUV 광원의 출력 및 안정성 향상, 새로운 마스크 기술, 그리고computational lithography와의 시너지는 EUV 기술의 발전 속도를 더욱 가속화할 것입니다.
최종 업데이트: 2026.04.10