설비/장비(Equip)
Optical Critical Dimension (OCD) Metrology (광학 CD 측정 장비)
광학적 간섭 현상이나 회절 원리를 이용하여 반도체 패턴의 임계 치수(CD) 및 형상(프로파일)을 비파괴적으로 측정하는 장비입니다. CD-SEM과 달리 전자빔 데미지 없이 빠르고 대량으로 측정할 수 있어 인라인 공정 제어에 주로 사용됩니다. 리소그래피 및 식각 공정의 실시간 모니터링에 중요합니다.
최종 업데이트: 2026.04.03