전공정(FAB)
Overlay (오버레이)
웨이퍼 상에 이미 형성된 패턴과 새로 형성될 패턴 간의 정렬 정확도를 나타내는 척도입니다. 각 층의 패턴이 정확하게 중첩되지 않으면 전기적 단락, 개방 또는 소자 특성 저하를 유발합니다. 고성능 반도체 제조에서는 수 나노미터(nm) 수준의 오버레이 정밀도가 요구되며, 이는 다층 구조의 복잡한 회로를 구현하는 데 결정적인 역할을 합니다.
최종 업데이트: 2026.04.03