전공정(FAB)
Overlay Error (오버레이 오차)
반도체 제조 공정에서 서로 다른 층(Layer)의 패턴이 얼마나 정확하게 정렬되어 형성되었는지를 나타내는 지표입니다. 이전 층의 패턴 위에 다음 층의 패턴을 노광할 때 발생하는 미세한 정렬 불일치를 의미하며, X-Y 방향의 이동 오차, 회전 오차 등으로 구성됩니다. 오버레이 오차가 클수록 소자의 단락(short)이나 개방(open) 불량을 유발하여 칩의 기능 불량 및 수율 저하의 주된 원인이 됩니다.
최종 업데이트: 2026.04.04