설비/장비(Equip)
Overlay Metrology Tool (오버레이 측정 장비)
반도체 다층 구조에서 각 층의 패턴이 서로 얼마나 정확하게 정렬되어 있는지를 측정하는 장비입니다. 광학적 또는 전자빔 방식을 사용하여 미세한 정렬 오차(오버레이)를 검출합니다. 공정 마다 패턴의 정확한 중첩은 소자의 성능과 기능을 결정하므로, 오버레이 측정은 리소그래피 공정의 핵심 제어 파라미터입니다.
최종 업데이트: 2026.04.03