PEB

PEB (Post Exposure Bake, 노광 후 베이크)
사용자 정의: 노광 후 웨이퍼를 가열하여 감광액 내의 화학 반응을 활성화하고 안정화하는 공정.

상세 설명: 노광 공정의 물리적 단계를 화학적 단계로 연결하는 핵심 공정입니다. 최신 화학 증폭형 레지스트(CAR, Chemically Amplified Resist)에서 PEB는 결정적인 역할을 합니다.

작동 원리: 노광 단계에서 빛을 받은 영역의 노광 산 발생제(PAG)에서 산(Acid)이 생성됩니다. 이어지는 PEB 단계에서 웨이퍼에 열을 가하면, 이 산이 촉매가 되어 주변 레지스트 고분자의 화학적 구조를 변화시키는 반응(탈보호 반응 등)을 가속화합니다. 이 과정에서 산은 소모되지 않고 계속해서 다른 반응을 일으켜 하나의 광자가 수많은 반응을 유도하는 '증폭' 효과를 냅니다.

중요성: PEB 시간과 온도는 패턴의 최종 선폭(CD)과 에지 거칠기(LER/LWR)에 막대한 영향을 미칩니다. 온도가 미세하게만 변해도 산의 확산 거리가 달라져 CD 오차(EPE)가 발생하므로 극도의 균일성 관리가 필요합니다. EUV 노광 공정에서는 레지스트의 확률적 변동성을 PEB 공정으로 안정화하는 연구가 중요하게 다뤄집니다.