전공정(FAB)
Pellicle (펠리클)
포토마스크 표면에 먼지 등 이물질이 붙는 것을 방지하기 위해 씌우는 얇은 투명 박막입니다. 오염원이 마스크에 직접 닿지 않게 하여 노광 시 패턴 결함(Defect)을 원천 차단하며, 특히 고가의 EUV 마스크 보호를 위해 고투과율 EUV 펠리클이 중요하게 다뤄집니다.
최종 업데이트: 2026.04.03